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미국의 EUV 장비 구매 제재를 피해

일본에서 사들인 니콘 DUV 멀티패터닝 리소그래피 NSR-S631E (기사 사진은 더 진보한 5나노 DUV용 NSR-S635E) 를 도입한

SMIC 7나노 공정에서 생산한 화웨이 모바일AP 기린 9000S가

삼성 4나노 공정에서 생산한 스냅드래곤 8g1을 크게 이김

물론 우시오전기의 일제 EUV 광원조사장치 쓰는 ASML 4nm EUV 리소그래피 쓰는 TSMC 4나노한테는 둘다 쳐발림 ㅇㅇ

역시 반일하면 반도체를 만들 수가 없네 ㅇㅇ