물리적인 전수 계측 없이도 모든 제품의 공정 결과값을 예측할 수 있어..

[%%%%(211.36)]

물리적인 전수 계측 없이도 모든 제품의 공정 결과값을 예측할 수 있어


반도체 공정 검증 강화"…SK하이닉스, 식각 공정에 'AI 솔루션' 도입

기자명 김주경 기자



입력 2024.08.13 15:17



댓글 0

바로가기 복사하기 본문 글씨 줄이기 본문 글씨 키우기

페이스북(으)로 기사보내기 트위터(으)로 기사보내기 URL복사(으)로 기사보내기 이메일(으)로 기사보내기 다른 공유 찾기 기사스크랩하기



산업용 AI 기업 가우스랩스가 가상 계측 솔루션 '파놉테스(Panoptes) VM' 2.0 버전. (사진=SK하이닉스)

[뉴스포스트=김주경 기자] SK하이닉스가 투자한 가우스랩스에서 반도체 공정 계측 시스템인 AI 솔루션을 자체 개발한 것으로 알려졌다. 이번에 새롭게 개발한 기술로 인해 반도체 공정 검증에 대한 경쟁력이 한층 더 진일보할 것으로 기대를 모은다.
SK하이닉스가 투자한 산업용 AI 기업인 가우스랩스가 가상 계측 솔루션 '파놉테스(Panoptes) VM' 2.0 버전을 출시했다고 13일 밝혔다.
반도체 계측작업은 반도체 제조 과정에서 반도체 소자의 물리적, 전기적 특성이 생산 공정별로 제대로 충족됐는지 측정해 생산성을 높인다.

이번에 가우스랩스가 개발한 '파놉테스 VM'은 장비에 설치된 센서에서 수집한 데이터로 제조 공정 결과를 예측하는 AI 기반의 가상 계측 솔루션이다.
해당 솔루션을 적용하면 물리적인 전수 계측 없이도 모든 제품의 공정 결과값을 예측할 수 있어 시간과 자원을 단축할 수 있다는 것이 SK하이닉스 측의 설명이다.
이번에 출시한 판옵테스 VM 2.0은 신규 모델링 기능들을 적용해 기존 버전 대비 예측 정확도와 사용성을 크게 개선한 것이 특징이다.
SK하이닉스는 박막 증착 공정에 이어 식각 공정에도 성능이 개선된 판옵테스 VM 2.0을 식각 공정까지 확대 적용할 방침이다.
식각 공정은 웨이퍼에 액체 또는 기체의 부식액으로 불필요한 부분을 제거해 반도체 회로 패턴을 만드는 과정이다. 파놉테스 VM의 '멀티 스텝 모델링' 기능을 활용하면 가상 계측의 정확도를 높일 것으로 기대된다.
앞서 가우스랩스는 2022년 11월 판옵테스 VM 1.0을 출시한 바 있다.
당시 SK하이닉스는 그 해 12월부터 해당 솔루션을 양산 팹(Fab)에 도입해 '박막 증착' 공정에 적용했던 것으로 알려진다.
박막은 절연된 반도체, 유리, 세라믹 등의 기판상에 형성된 아주 얇은 피막이다. 웨이퍼 위에 진공 증착이나 스퍼터링 등의 공정 기법을 통해 물리적·화학적 반응을 일으켜 박막을 입히는 공정이다. 박막의 두께와 굴절률은 반도체의 품질과 직결된다.
SK하이닉스는 판옵테스 VM을 통해 가상 계측한 결과값을 APC(장비의 최적 공정 조건을 찾아주는 솔루션)와 연동해 공정 산포(품질 변동 폭)를 약 29% 개선했고, 수율 또한 향상되는 효과를 얻은 것이다.
김영한 가우스랩스 대표는 "2020년 회사 출범 당시 'AI 기술을 통한 제조 공정 혁신'이라는 비전을 세우고 AI 솔루션 개발에 전해왔념다"며 "지난 4년간의 노력들이 반도체 분야에서 의미 있는 결과를 내고 있는 만큼, 여기서 얻은 산업용 AI 기술력을 바탕으로 글로벌 시장을 개척해 나가겠다"고 말했다.

김주경 기자 [e-mail]