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그동안 말만 무성했던 중국 자국산 28나노 노광기가 드디어 생산에 투입되는 것 같음.


환구시보 (Global Times)와 신화통신의 보도이니 사실 확인인 셈.


"will launch its first 28-nanometer homegrown lithography machine at the year-end"

연말에 첫번째 28-나노미터 자국산 노광 기계 (DUVL)을 띄울 것이다.


2021년에 개발을 했다는 얘기가 나왔는데 그동안 무소식이었던 것은


이 기간동안 아마도 네덜란드, 일본산 노광기와 비교 벤치마크와 수정과정을 했던 것 같음.


그리고 자국산을 써도 괜찮다 판단을 내린 것 같음.


참고로 중국은 미국의 제재로 반도체 생산에 필요한 노광장비 (Lithography)을 수입하지 못했음.


이 노광장비를 만드는 나라는 네덜란드와 일본 뿐인데 여기에는 미국의 특허와 기술이 들어가서 있기 때문에


미국이 이를 빌미로 두 나라에게 중국에 노광장비를 팔지 말라고 협박했음.


노광장비에는 두가지가 있는데


1. DUV


2. EUV (7나노 이하 미세공정 반도체 생산에 필요)


중국이 28나노 DUV를 국산화했다는 것은 14나노급 DUV도 곧 나온다는 것이고 이제 뫤만한 반도체는 다 만들 수 있는 뜻.


이제 남은 것은 EUV 개발




https://www.globaltimes.cn/page/2

중국 기업 연말에 28나노 칩 기계 전달 기대 - 언론 보도


https://v.daum.net/v/20230801141340389

태양광처럼 될라…긴장한 美, 中 '구형 반도체'도 신경쓰인다