[📪정보] 캐논, 새로운 리소그래피 시스템 출시...ASML 아성에 도전

nil (nanoimprint lithography)은 1995년 stephen y-chou 교수가 제안한 기술로 mask(template)에 chip design pattern을 각인 시킨 후

1)photoresist 위에 mask를 압착 2)열 또는 uv-light을 이용해 photoresist 경화 3) mask 제거 후 etching 과정을 가지는 반도체 제조 기술이다

nil은 mask의 품질과 비용 문제, mask 손상 위험, 이미지 전사 시 결함 발생, overlay 정확도 확보의 어려움, throughput 등의 문제로 사장 된 기술로 여겨지고 있다

canon은 template replication (FPA-1100-NR2) 기술을 개발하여 mask 손상 문제를 해결하였으며

high precision alignment 시스템을 개발하여 1nm precision의 alignment을 달성하였으며

defect 관련 문제는 high performance filter로 공기 중의 미세 입자를 제거하여 깨끗한 환경 유지하고

air curtain을 통하여 공기 흐름을 조절하여 입자를 mask와 resist에서 멀리 떨어지도록 유도했다고 밝혔다

보고서에 따르면 초기 모델(Imprio500 J-FIL)은 시간 당 20개의 wafer를 처리하였지만

2017년에는 시간 당 약 80개의 wafer 처리 가능 수준으로 개선을 성공하였다고 밝혔다

canon에 따르면 overlay precision는 ≦ 4 nm 정도이며 image resolution은 약 14nm에 달한다고 한다

2nm의 반도체를 시작으로 시스템 반도체까지 점령한다는 계획이라고 밝혔다

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