인텔이 1.8나노미터(nm, 10억 분의 1m) 반도체 공정 개발의 전진 기지가 될 미국 오리건주 공장 가동을 시작했다. 인텔은 3조원 이상을 투자한 이 공장을 주축으로 선단 공정 개발에 속도를 낼 예정이다.


인텔은 반도체 위탁생산(파운드리)에 사활을 걸면서 2024년에 2나노, 2025년에 1.8나노 공정에 돌입하려고 했지만, 이를 앞당겨 2024년 상반기에 2나노, 같은해 하반기에 1.8나노 반도체를 생산할 계획이다.

인텔의 이같은 개발 계획은 다분히 TSMC와 삼성전자를 의식한 행보다. 두 회사는 올해 3나노 반도체를 양산할 예정이다. 2나노의 경우엔 TSMC가 2024년, 삼성전자가 2025년을 목표로 하고 있으며 1나노대는 구체적인 시기를 밝히지 않았다.


일각에선 인텔이 2년 내에 1.8나노 수준의 공정까지 성공한다는 건 무리라는 우려도 나온다. 인텔이 7나노 수준의 기술을 가지고 있는 상황에서 TSMC나 삼성보다 빨리 2나노 공정을 시작한다는 건 어렵다는 전망에서다.

이와 관련해 인텔 관계자는 "기술 검증을 한 후 로드맵을 공개한 것"이라며 "1.8나노 공정은 개발이 이미 들어갔다"고 말했다.

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