삼성이 슬슬 2nm공정도 공식 로드맵에 추가할 가능성이 높음

아마 빠르면 이번 5월달에 있을 파운드리 행사에서 2nm 로드맵을 발표하지 않을까 생각함

2nm에서는 기존 Nanosheet Fet에서 발전된 Forksheet Fet이 사용될 가능성이 높음

Forksheet Fet은 Nanosheet Fet이 가진 미세화의 한계를 극복할수 있고 n형과 p형 디바이스의 간격이 가까워져 성능은 10% 높아지고 셀 면적은 20% 감소할것으로 예상됨

또한 기존 Nanosheet 구조에 몇가지 공정만 추가하면 되어서 기존 Nanosheet 구조와 호환성이 높음, 즉 3nm 고객들이 3nm IP를 그대로 활용한채 2nm 공정을 설계할수 있어서 설계비용을 많이 아낄수 있음, 즉 삼성의 3nm공정을 사용한 업체는 다시 삼성의 2nm공정을 활용할 가능성이 메우 높음