[📰소식] 중국 자국산 DUV 노광장비 발표

[익명(175.115)]

https://www.scmp.com/tech/tech-war/article/3278597/china-touts-home-grown-chip-lithography-machines-amid-semiconductor-self-sufficiency-drive

China touts home-grown chip machines amid self-sufficiency drive

중국 정부는 미국의 제재 속에서 기술 자급자족을 위해 노력하는 가운데, 상당한 발전을 이룬 두 대의 국산 칩 제조 장비를 홍보하고 있습니다.

공업정보화부(MIIT)는 실리콘 웨이퍼에 매우 복잡한 회로 패턴을 인쇄하는 노광장비에서 “상당한 기술 혁신을 달성하고 지적 재산권을 소유하고 있지만 아직 시장에서 성과를 거두지 못했다”며 배후에 있는 회사의 이름을 밝히지 않았습니다.

이번 주 초 MIIT가 발표한 새로운 '주요 기술 장비' 목록에 따르면 심자외선(DUV) 리소그래피 기계 중 하나는 193나노미터(nm)의 파장에서 작동하며 해상도는 65nm 미만, 오버레이 정확도는 8nm 미만입니다. 목록에 따르면 다른 DUV 장비의 파장은 248nm이며, 해상도는 110nm, 오버레이 정확도는 25nm입니다.

두 장비는 여전히 시중에 나와 있는 가장 진보된 옵션에 비해 훨씬 뒤처져 있습니다. 예를 들어, 네덜란드 장비 제조업체인 ASML Holding의 최첨단 DUV 장비 중 하나는 38nm 미만의 해상도에서 1.3nm의 오버레이 정확도로 작동할 수 있습니다.

또한 DUV 장비는 파장이 13.5nm에 불과한 빛을 사용하는 극자외선(EUV) 장비보다 뒤처지는데, 이는 DUV의 195nm보다 약 14배 더 선명한 파장입니다.

중국은 수년간 반도체 기술 자급자족을 추구해 왔지만, 첨단 칩을 안정적으로 대량 생산하는 데 필요한 리소그래피 시스템 생산은 여전히 더디게 진행되고 있습니다.

중국의 거의 모든 리소그래피 장비는 여전히 ASML에서 생산되고 있는데, ASML은 이미 중국 고객들의 최첨단 EUV 장비에 대한 접근을 차단했으며, 미국으로부터 중국 기반 고객들에게 DUV 장비를 공급하지 말라는 압박을 받고 있습니다.

자체 첨단 리소그래피 시스템을 개발할 수 있는 중국 최고의 희망인 국영 기업 상하이 마이크로 일렉트로닉스 장비 그룹(SMEE)은 여전히 ASML과 같은 글로벌 경쟁업체에 크게 뒤처져 있습니다. 전문가들에 따르면 2022년 12월 미국의 무역 블랙리스트에 추가된 이 회사는 규제를 극복하기 위해 여러 기술과 공급업체 네트워크 전반에 걸쳐 획기적인 발전이 필요합니다.

하지만 SMEE는 제재에도 불구하고 어느 정도 진전을 이루었습니다. 이번 주 초에 공개된 기업 등록 데이터에 따르면 이 회사는 작년 3월에 “EUV 방사선 발생기 및 리소그래피 장비”에 대한 특허를 출원했습니다.