일례로 EUV 광원은 고에너지 EUV를 지속적으로 생성하는 것이 필수적인데, 이걸 위해서 액체 주석을 레이저로 들뜨게 만듬.
근데, 변환 효율을 높이기 위해 초당 2만 방울 정도로 일정하게 내려오는 주석 방울들을 레이저로 약하게 한번 맞춰서 접시 모양을 만들고, X ns 뒤 그걸 강하게 맞춰서 EUV를 만들어냄.
그걸 매 초당 2만 번 이상 꾸준하게 반복해야 하고, 이게 성공하면 EUV 장비를 구성하는 전체 구성요소 중 '광원' 하나가 해결된 거임.
근데 최근에는 에너지 효율 더 뽑겠다고 주석 한 방울을 레이저로 3번 맞추겠다는 게 차세대 ASML EUV 장비의 연구 방향임..
광원, 광학계, 이송, 정렬 등등 EUV 장비를 구성하는 구성 요소 하나하나마다 거의 외계인을 갈아넣은 수준의 기술들이 무더기로 적용되고, 주위 환경에도 굉장히 민감해서 매번 설치할 때마다 alignment를 거쳐야 하는 장비가 EUV 장비다.
괜히 ASML이 원격으로 TSMC 설비 못 쓰게 만들 수 있다고 대놓고 밝히는 게 아님. 킬 스위치가 아니더라도 ASML 파견 엔지니어의 서포트만 중단되어도 얼마 못 가 전체 장비가 고철로 변하니까..
레이저 2번 맞추다 3번 맞추는게 왜 효율이 더 좋음? 그나저나 나노초 컨트롤은 지리네
논문을 안읽어봐서 ㅁ?ㄹ
사실 기존 산업기술에 비하면 반도체 공정 전체가 대량생산과 맞지 않는 반쪽짜리 실험실 양산기술임. 근데 첨단 반도체에 대한 막대한 수요와 이윤이 이걸 효율적이고 가치있는 양산기술로 끌어올렸다고 ㅋㅋㅋㅋ - dc App
맞음. EUV는 그게 아니면 존재할 수도 없는 기술임 ㅋㅋ
반도체 공정은 네 말대로 포디즘과 거리가 있는 실험실 수준의 물건인데, 그냥 실험실을 개 크게 만들어서 해결한거지 ㅋㅋㅋㅋㅋㅋ - dc App
@ㅇㅇ EUV x EUVL o
광학 기술, 기계, 제어, 모든 요소의 오차를 한 분야도 빠짐 없이 나노 단위로 억제해야 가능한 미친차력쇼 한 대에 수천억원 하는게 이상하지 않음